000 | 01129nab a22002537 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | H(066) UNCOL | ||
003 | AR-sfUTN | ||
008 | 190909b xx |||p|r|||| 00| 0 spa d | ||
040 | _cAR-sfUTN | ||
080 | _aH(066) UNCOL | ||
100 | _aVargas-Hernández, Carlos | ||
700 | _aJurado, Jesús Fabián | ||
245 | _aUso de la técnica de fotorreflectancia en películas delgadas | ||
336 |
_2rdacontent _atexto _btxt |
||
337 |
_2rdamedia _asin mediación _bn |
||
338 |
_2rdacarrier _avolumen _bnc |
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505 | _aLa fotorreflectancia es una técnica de modulación usada ampliamente para el estudio de la estructura electrónica de semiconductores. Se pueden determinar los puntos críticos en la estructura electrónica de bandas del material, entre los que se encuentra la brecha prohibidad Eg, así como los campos eléctricos en la interfaz y en la superficie del material. | ||
650 | _aPELICULAS DELGADAS | ||
650 | _aESPECTROSCOPIA DE REFLECTANCIA | ||
650 | _aFOTORREFLECTANCIA | ||
773 |
_tNoos _wH(066) UNCOL _nS.T.:H(066) UNCOL PP4226 _g(nro. 17, Sep. 2003), p. 86-95 |
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942 | _cAN | ||
999 |
_c42831 _d42831 |